本发明公开了一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置

所述装置包括高压电极、地电极、气室、通气管，所述高压电极置于所述通气管内，地电极设置于通气管的外表面；工作时，高压电极和地电极之间施加有高压，形成等离子体放电区域；给料气体由气室通过通气管到达上述等离子体放电区域，并将产生的等离子体以射流的形式作用到被处理物

所述装置还可包括流量控制器对给料气体的成分和流速进行控制，并可在高压电极尖端设置绝缘层；能够产生稳定、均匀、活性粒子强度较高的射流等离子体，并降低放电电压、提高安全性，更加适用于生物医学、材料表面处理、环境保护等多个应用领域